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机译:由氯化物 - 氟化物熔化的硅电沉积含有K2siF6和siO2
Zhuk Sergey I.; Isaev Vladimir A.; Grishenkova Olga V.; Isakov Andrey V.; Apisarov Alexey P.; Zaykov Yurii P.;
机译:含K2SiF6和SiO2的氟化物氟化物熔体中的硅电沉积
机译:氯化物-氟化物熔体中硅配合物电还原的伏安研究
机译:氟化物熔体中硅的电沉积
机译:用不同阳离子组成的碱氯化物 - 氟化物熔融的铌涂层电沉积的复杂形成和微生物
机译:聚合硅酸盐熔体中硅和氧的自扩散与熔体粘度的压力相关性。
机译:低温碳酰胺和乙酰胺熔体对纳米铑的电化学行为和电沉积
机译:氟化物熔体中硅的电沉积:硅膜的生产
机译:由SIO2和MGF2组成的硅化组成,以及使用相同的硅化方法,能够将高硅钢片材制造出来,因为在高温下将SIO2和MGF2的混合物硅化到了低硅钢片上
机译:SiO2 FeTiO3产生SiO2和FeTiO3颗粒与电磁波电磁相互作用还原硅和钛的方法
机译:颜料颗粒是具有密集掺杂的二氧化硅层(SiO2)(变体)的二氧化钛,以及具有密集掺杂的SiO2颗粒(变体)的制造方法和使用所述颗粒(纸中的原材料)制造油漆,清漆和纸的方法在上述颗粒的基础上制造或涂覆产品
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